氧化鈦-氧化鋯靶材-高純4~6N-low-E玻璃鍍膜-可定制
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安徽拓吉泰新型陶瓷科技有限公司
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安徽省合肥市
噴涂氧化鈦/氧化鋯靶材 Spray TiOx/ZrOx Target
產(chǎn)品說明Product description
以等離子體為熱源將相應(yīng)粉末加熱到熔融或半熔融狀態(tài)并高速?zèng)_擊背管表面形成致密涂層,從而制備出高純度、高致密度TiOx,ZrOx靶材。
With plasma as the heat source, high purity high density TiOx amd ZrOx targets are produced from respective powders, which are heated to molten or semi-molten state and deposited on the surface of backing tube at high speeds to form dense coatings.
氧化鈦靶材TiOx target
項(xiàng)目 Item | 參數(shù) Specifications | 檢測(cè)手段 Testing method |
純度 Purity | ≥99.9% |
|
密度 Density | ≥4.0 g/cm3 | 阿基米德密度儀 Archimedes densimeter |
雜質(zhì)含量 Impurities | SiO2: ≤100ppm P2O5: ≤10 ppm SO2: ≤60 ppm Cu: ≤18 ppm Fe: ≤80 ppm 雜質(zhì)總和 (Total impurity): ≤1000 ppm | 化學(xué)分析 Chemical analysis
|
電阻率 Electrical resistivity | ≤50 mΩ?cm | 四探針電阻率儀 Four probe resistivity meter |
氧化鋯靶材ZrOx target
項(xiàng)目 Item | 參數(shù) Specifications | 檢測(cè)手段 Testing method |
純度 Purity | ≥99.9% |
|
密度 Density | ≥5.4 g/cm3 | 阿基米德密度儀 Archimedes densimeter |
雜質(zhì)含量 Impurity content
| Al: ≤100 ppm Cr: ≤50 ppm Ti: ≤100 ppm Fe: ≤200 ppm 雜質(zhì)總和 (Total impurity): ≤1000 ppm | ICP |
電阻率 Electrical resistivity | ≤0.5 Ω?cm | 四探針電阻率儀 Four probe resistivity meter |
背管材質(zhì) Backing tube
-選用304/316L不銹鋼(無磁)。
304/316L stainless steel (non-magnetic).
靶材尺寸Dimension
-按照?qǐng)D紙要求加工
According to customized drawings.
應(yīng)用領(lǐng)域Applications
-光學(xué)玻璃AR膜系 AR films of optical glasses
-LOW-E鍍膜玻璃 LOW-E glasses
-工具鍍膜和裝飾鍍膜 Tool and decorative coatings