設(shè)備調(diào)整及與腐蝕溶液的彼此作用聯(lián)絡(luò) 三

對蝕刻進(jìn)程所進(jìn)行的化學(xué)機(jī)理剖析也證明了上述觀念。在氨性蝕刻中，假定全部其它參數(shù)不變，那么蝕刻速率主要由蝕刻液中的氨(NH3)來決定。因而用新鮮溶液與蝕刻表面作用,其目的主要有兩個：一是沖掉剛剛發(fā)作的銅離子;二是不斷供應(yīng)進(jìn)行反應(yīng)所需求的氨(NH3)。 在印制電路工業(yè)的傳統(tǒng)知識里,特別是印制電路原料的供貨商們,我們公認(rèn),氨性蝕刻液中的一價銅離子含量越低，反應(yīng)速度就越快.這已由閱歷所證明。

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設(shè)備調(diào)整及與腐蝕溶液的彼此作用聯(lián)絡(luò) 六

這樣做有必要加一套PH計控制體系。當(dāng)自動測得的PH作用低于給定值時，溶液便會自動進(jìn)行增加。 在與此相關(guān)的化學(xué)蝕刻(亦稱之為光化學(xué)蝕刻或PCH)領(lǐng)域中,研討作業(yè)現(xiàn)已初步，并抵達(dá)了蝕刻機(jī)結(jié)構(gòu)規(guī)劃的階段。在這種辦法中,所運用的溶液為二價銅，不是氨-銅蝕刻。

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