制備五氧化二鉭薄膜并研究其性能,有很強的實用價值,已引起人們的密切關(guān)注。

離子束濺射Ta2O5薄膜的研究主要集中在離子束、烘烤溫度和工作氣體流量比等參數(shù)的優(yōu)化以及熱處理對薄膜性能的影響上，并獲得了離子束濺射制備Ta2O5薄膜的折射率、消光系數(shù)、應(yīng)力、化學(xué)計量比、微結(jié)構(gòu)和光學(xué)帶隙等特性。

制備Ta2O5薄膜的方法有很多,常見的有化學(xué)氣相沉積法[2-3]、DC或RF濺射法[4-6]、電子束蒸發(fā)法[7-8]、溶膠凝膠法[9-12]等.與傳統(tǒng)的物理化學(xué)方法相比較,溶膠凝膠法不需要真空條件和太高的溫度,可在任意形狀的基片上成膜,制備過程容易控制,體系的化學(xué)均勻性好,而且通過自組裝和模板作用可用于合成具有高比表面積的介孔材料

五氧化二鉭的應(yīng)用相當(dāng)廣泛,涵蓋觸媒、固態(tài)氧化物燃料電池和感測器等.而五氧化二鉭(Ta2O5)薄膜具有高介電常數(shù)(25~35)、高折射率(波長550 nm處為2.01~2.23)和很好的化學(xué)穩(wěn)定性,可以作為動態(tài)隨機存儲器(DRAM)、金屬氧化硅晶體管、減反膜、高溫阻抗、氣敏傳感器以及電容器的關(guān)鍵材料等