鋼研納克同時(shí)也是全球知名的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)提供商，都提供標(biāo)樣，很多是以混標(biāo)的形式包含了用戶要求濃度的多種元素，可以方便 地用于 PLASMAMS 300 分析。
此外您也可以從鋼研納克購(gòu)買(mǎi)單標(biāo)---10,000/1,000 ppm的單標(biāo)母液。
但是，考慮到各個(gè)元素自身的物理化學(xué)特性，以及它們?cè)谒嶂械姆€(wěn)定性，或者它們與溶液 中其他元素的共存穩(wěn)定性等各種特性，在配置混標(biāo)的過(guò)程中必須格外小心。
當(dāng)配置自用的復(fù)合標(biāo)準(zhǔn)品時(shí)，應(yīng)注意
? 此外高濃度能降低分析元素的損失,如瓶壁吸附
? 不是溶液中所有的元素均需要達(dá)到10ppm的線性范圍
? 也要小心不要混合產(chǎn)生相互反應(yīng)的元素否則可能產(chǎn)生沉淀,如在S存在下的Ba。
? 在制備標(biāo)樣或者樣品的過(guò)程中，請(qǐng)確認(rèn)您的去離子水系統(tǒng)能夠正常工作，一 般超純水的電阻率應(yīng)該在18.2 MΩ/cm左右。
? 在此過(guò)程中使用的試劑例如酸試劑，也應(yīng)該是純度的。
? 移液管(pipettes)或其他類(lèi)似器具不能直接伸入試劑或母液容器里。
? 確保PLASMAMS 300的工作容器都是塑料的（例如PFA, FEP, PTFE, LDPE, HDPE, PMP 或PP），盡量不要用玻璃容器(Pb,Hg等可以用玻璃)。
? 在制備標(biāo)樣或者樣品的過(guò)程中，盡量減少稀釋步驟。
? 應(yīng)當(dāng)使用經(jīng)過(guò)校準(zhǔn)的微量移液器（例如移液），并且使用一次性塑料頭。
? 應(yīng)當(dāng)在通風(fēng)櫥里面進(jìn)行制備，以盡量避免空氣流通帶來(lái)的污染。
? 為了得到的檢出限，凡是在制備過(guò)程中會(huì)與標(biāo)樣或者樣品接觸的容器和 器具都應(yīng)當(dāng)在使用前經(jīng)過(guò)酸液浸泡。

非質(zhì)譜干擾(物理干擾)是PlasmaMS 300中存在的兩種主要干擾中的一種。 非質(zhì)譜干擾主要包括： 1.質(zhì)譜內(nèi)沉積物：可以通過(guò)適當(dāng)?shù)那鍧嵍档汀?br>2.樣品基體：這種干擾有時(shí)候可通過(guò)不同的樣品制備方法或適合的性能選項(xiàng)來(lái)降低，如使 用超聲霧化器(ultrasonic nebulizer ,USN) 或者氬氣稀釋器(Argon Gas Dilution???) 。
有五種方法可以用來(lái)校正這種類(lèi)型的干擾，按照從易到難的順序排列在下面：
1. 如果檢出限允許的話，簡(jiǎn)單的辦法是對(duì)樣品進(jìn)行稀釋。
2. 使用內(nèi)標(biāo)校正
3. 使用標(biāo)準(zhǔn)加入法
4. 氬氣稀釋 (前提是需要使用ESI進(jìn)樣系統(tǒng))
5. 采用化學(xué)分離法將樣品中的基體進(jìn)行分離去除 非質(zhì)譜干擾(物理干擾)的存在有兩種表現(xiàn)形式：信號(hào)抑制、信號(hào)漂移。其中內(nèi)標(biāo)校正是使
用廣泛的用來(lái)校正物理干擾的技術(shù)手段。
在進(jìn)行多樣品序列分析時(shí)，內(nèi)標(biāo)可以用來(lái)校正隨著時(shí)間推移而發(fā)生的信號(hào)漂移。實(shí)驗(yàn)室環(huán) 境變化、樣品基體變化、樣品粘度變化等因素都會(huì)引起信號(hào)的漂移。錐口鹽沉積也會(huì)引起 信號(hào)的漂移。
如果需要測(cè)量的元素覆蓋的質(zhì)量區(qū)間范圍很大 (例如方法中既包含高質(zhì)量元素，也包含中 質(zhì)量元素或輕質(zhì)量元素)，使用多種內(nèi)標(biāo)進(jìn)行校正。
在本章第三節(jié)(內(nèi)標(biāo)選擇)中已經(jīng)詳細(xì)介紹過(guò)內(nèi)標(biāo)的使用原則，用戶可以進(jìn)行參考。
標(biāo)準(zhǔn)加入法是另外一種廣泛使用的用來(lái)校正非質(zhì)譜干擾的手段。當(dāng)基體抑制效應(yīng)無(wú)法通過(guò) 稀釋或基體剝離來(lái)去除的時(shí)候，可以用標(biāo)準(zhǔn)加入法來(lái)降低干擾。

PlasmaMS 300 的污染控制
在使用PLASMAMS 300進(jìn)行分析的時(shí)候，必須盡可能控制污染。污染會(huì)導(dǎo)致數(shù)據(jù)出錯(cuò)，其結(jié)果是 背景增高，從而導(dǎo)致檢出限提高。
污染來(lái)源： 1.實(shí)驗(yàn)室環(huán)境：空氣中的塵埃（特別是Al）是常見(jiàn)的污染源。通過(guò)過(guò)濾、凈化空氣和高 效濾網(wǎng)（HEPA），降低污染源。
2. 水：去離子化系統(tǒng)生產(chǎn)的水其阻抗需達(dá)到18.2Mohm/cm。
3.試劑：應(yīng)用于樣品和標(biāo)品中酸、溶劑和鹽必須為高純度。移液管或其他器具不應(yīng)接觸試 劑容器。能小量分裝后用一次性移液器移取。
PLASMAMS 300使用的容器：FEP, PTFE, LDPE, HDPE, PMP 和 PP等應(yīng)先使用酸洗。 樣品制備：減少稀釋步驟，使用一次性塑料微量移液器頭（酸洗），在通風(fēng)櫥里面準(zhǔn)備。 要排查污染來(lái)源往往是漫長(zhǎng)而艱難的工作。因此，建議用戶遵循“按部就班”的方式
(Step-by-step approach)來(lái)進(jìn)行污染控制：
? 儀器背景(Instrument background)
? 水空白(Water blank)
? 酸空白(Dilute acid blank)
? 樣品空白(Sample preparation blank)
Step-by-step approach實(shí)際上是檢查實(shí)驗(yàn)過(guò)程中用到的所有空白，來(lái)尋找污染的來(lái)源。 污染可存在于儀器、水、稀釋液、酸、試劑、樣品空白或儲(chǔ)存容器中。
污染也可能存在于標(biāo)樣母液中。下圖示例就是在Ca元素單標(biāo)溶液中存在著B(niǎo)a和Sr的污染：
上圖中所展示的受到Sr和Ba污染的Ca標(biāo)液是AA級(jí)別的，用戶應(yīng)當(dāng)從正規(guī)供應(yīng)商處采購(gòu)合適純度級(jí)別的標(biāo)準(zhǔn)樣品。

ICP-MS的標(biāo)準(zhǔn)加入法
基體抑制是由基體帶來(lái)的物理干擾或化學(xué)干擾導(dǎo)致的。 使用標(biāo)準(zhǔn)加入法時(shí)： 1.首先將少量已知量的分析物添加到預(yù)制的分析樣品中；
2.然后對(duì)這些包含了標(biāo)準(zhǔn)加入物的樣品進(jìn)行再測(cè)定，并繪制出濃度曲線；
3.該曲線在濃度軸(X 軸)上的截距即為樣品中分析物的濃度，
4.該曲線的實(shí)驗(yàn)空白(即未加標(biāo)樣品)CPS（即 Y 軸上的截距），即為樣品中分析物的 CPS；
5.標(biāo)準(zhǔn)加入法得到的圖形斜率即為該基體中樣品的分析靈敏度。
6.標(biāo)準(zhǔn)加入法避免了配置標(biāo)準(zhǔn)曲線，相當(dāng)于進(jìn)行了完全的基體匹配。
7.后續(xù)樣品如果基體和該加標(biāo)樣完全一致，則相當(dāng)于該方法也為后續(xù)未知樣品提供了基體 匹配，該加標(biāo)曲線可以直接用于后續(xù)樣品的全定量測(cè)定。
基體效應(yīng)以外的干擾并不能通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)加入法消除，但是可以通過(guò)空白扣減來(lái)消除，前提是 用來(lái)扣減的空白溶液中和樣品中含有的干擾水平是一致的。