鄭科探直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備
鄭科探直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備
鄭科探直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備
鄭科探直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備

鄭科探直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備

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發(fā)貨地 河南省鄭州市
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品牌 鄭科探
功率 ≤1000W
重量 25kg
溫度 樣品臺溫度80°左右
規(guī)格 φ160mm x 170mm
類型 磁控濺射
用途 金屬鍍膜
材質(zhì) 不銹鋼
電壓 ≤1000V
型號 KT-Z1650PVD
鍍種 金屬
商品介紹

直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備，7寸人機(jī)界面，自動(dòng)手動(dòng)模式切換控制，最大功率1000w直流磁控濺射

單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備，特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等

單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。

所配電源為1000W大功率直流電源，可用于高能量的金屬濺射鍍膜，根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求也可以選配其他規(guī)格的直流或者射頻電源來實(shí)現(xiàn)各種材料的鍍膜操作。

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直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備技術(shù)參數(shù)；

控制方式

7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤1A

真空

機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘）   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉(zhuǎn)φ62  （可安裝φ50基底）

樣品臺轉(zhuǎn)速

8轉(zhuǎn)/分鐘

樣品濺射源調(diào)節(jié)距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計(jì)（已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa）

預(yù)留真空接口

KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進(jìn)氣口


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公司名稱 鄭州科探儀器設(shè)備有限公司
手機(jī) ῡῤῡ῟ῠῡ῟ΰῥῧῡ
地址 河南省鄭州市