品牌 華諾激光
定位精度 ±20μm
重復精度 ±20μm
劃線速度 200mm/s
切割厚度 ≤2mm
加工幅面 300*500mm
聚焦光斑 2-20μm
加工圖案 可定制加工
激光設備 紅外、紫外、綠光
波長 納秒、皮秒
商品介紹
3/4/5/6英寸掩膜板 精密標定板 金屬掩膜板 個性定制 誤差小精度高—華諾激光
專注于生產(chǎn)精密五金、IT產(chǎn)品配件、打印機配件、汽車配件、電器配件及工藝品產(chǎn)品的加工,公司產(chǎn)品取得了客戶的一致認可, 如:聯(lián)想、華為、中興、BYD、富士康、美泰、東芝、TCL、格力、美的、飛利浦等大客戶的認可。
光學掩模板在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精確定位,以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu)。掩膜版應用十分廣泛,在涉及光刻工藝的領域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成電路)、FPD(Flat Panel Display,平板顯示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷電路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微機電系統(tǒng))等。
光刻掩膜版(又稱光罩,英文為Mask Reticle),簡稱掩膜版,是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu),再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構(gòu)成。其圖形結(jié)構(gòu)可通過制版工藝加工獲得,常用加工設備為直寫式光刻設備,如激光直寫光刻機、電子束光刻機等。
掩膜版應用十分廣泛,在涉及光刻工藝的領域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成電路)、FPD(Flat Panel Display,平板顯示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷電路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微機電系統(tǒng))等。
主營產(chǎn)品掩膜板,掩膜夾具,金屬mask,蒸鍍罩,壓縮機閥片,精密光柵,,墊片墊圈,鉬片,不銹鋼狹縫,熱熔膠噴片,光電編碼器,精密金屬片、無連接點品牌LOGO、無連接點精密墊片、精密喇叭網(wǎng)、打印機電極、金屬碼盤、貼膜墊片、貼膜鋼片、貼膜不銹鋼片、掩模板、光柵片、過濾網(wǎng)、防塵網(wǎng)、鋁材工藝品、不銹鋼工藝品、精密彈片、打印機配件、引線框架、銀行柜員機配件等激光精密切割產(chǎn)品生產(chǎn)及銷售。
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天津公司位于天津西青區(qū)海泰發(fā)展二路
北京公司位于豐臺區(qū)南三環(huán)玉泉營
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