產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于： 電子、 精密五金、 通訊、汽車工程、航空航天、石油化工、軍事、科研、精密工程應(yīng)用元件 等行業(yè)。 公司所使用的材料以進(jìn)口為主，能夠?qū)Ω鞣N不同的金屬材質(zhì)進(jìn)行蝕刻加 工，主要有 SUS304、SUS301奧氏體鋼不銹鋼系列、鐵素體鋼材、馬氏體鋼、非 鐵金屬、合金材料、復(fù)合材料等各種特殊材料。在此條件下，蝕刻速度為10～20μm/h，蝕刻時間根據(jù)圖紋具體深度而定。厚度從0.01mm—2.0mm，公差可控制在±0.005mm。 本公司自成立以來，勵精圖治，精益求精，憑借全體員工的誠信、務(wù)實、 創(chuàng)新的企業(yè)精神， 在技術(shù)開拓創(chuàng)新方面躋身蝕刻行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)地位。

此方法所使用的溶液為二價銅, 不是氨-銅蝕刻, 它將有可能被用在印制電路工業(yè)中。 在 PCH 工業(yè)中, 蝕刻銅箔的典型厚度為 5 到 10 密耳(mils), 有些情況 下厚度卻相當(dāng)大。它對蝕刻參數(shù)的要求經(jīng)常比 PCB 工業(yè)更為苛刻。使用噴淋式蝕刻機，有數(shù)個噴頭從上向下噴灑腐蝕液，金屬板放在下面的傳送帶上，緩慢移動，控制速度，進(jìn)行腐蝕。 有一項來自 PCM 工業(yè)系統(tǒng)但尚未正式發(fā)表的研究成果﹐相信其結(jié)果將會令人耳目一新。 由于有雄厚的項目支持﹐因此研究人員有能力從長遠(yuǎn)意議上對蝕刻裝置的設(shè)計思想進(jìn) 行改變﹐同時研究這些改變所產(chǎn)生的效果。 比如說﹐與錐形噴嘴相比﹐采用扇形噴嘴的設(shè) 計效果更佳﹐而且噴淋集流腔 （即噴嘴擰進(jìn)去的那一段管） 也有一個安裝角度﹐對進(jìn)入蝕刻 艙中的工件呈 30 度噴射﹐若不進(jìn)行這樣的改變, 集流腔上噴嘴的安裝方式將會導(dǎo)致每個相 領(lǐng)噴嘴的噴射角度都不一致。

負(fù)載（Loading）-- 蝕刻速率依賴于可蝕刻表面數(shù)量，可在宏觀或微觀尺寸下。 縱橫比決定蝕刻（Aspect Ratio Dependent Etching/ARDE）--蝕刻速率決定于縱橫比。 終點（Endpoint）-- 在一個蝕刻過程中，平均膜厚被蝕刻干凈時的時間點。 光刻膠（Photo-resist）-- 作為掩膜用來圖形轉(zhuǎn)移的光敏材料。為了生產(chǎn)獲利，最快的渠道是花點錢到擁有成熟技術(shù)的地方學(xué)習(xí)現(xiàn)成技術(shù)，學(xué)了就能用起來。 分辨率（Resolution）-- 用于測試光學(xué)系統(tǒng)把相鄰的目標(biāo)形成分離圖像的能力。 焦深 (Depth of focus) – 在焦平面上目標(biāo)能形成影像的縱向距。 關(guān)鍵尺寸（Critical dimensions-CD）-- 一個特征圖形的尺寸，包括線寬、間隙、或者 關(guān)聯(lián)尺寸。